运营商财经 康钊/文
近日，荷兰外贸与发展合作大臣舍尔茨玛访华，随行人眼就有荷兰光刻机巨头ASML（即阿斯麦公司）的高管，据称，其核心目标之一就是力保ASML对华DUV光刻机的出口空间。这其实显示，中国高端光刻机还没造出来，就连DUV光刻机都还依赖进口，依旧容易被卡脖子。
首先，表面上看，中国光刻机研发的好消息不断，哈尔滨工业大学团队宣布成功研发放电等离子体（DPP）极紫外光源，波长 13.5 纳米，功率稳定在 150 瓦以上，成本较传统路线降低 30% 以上，已进入试产线验证阶段 。中国科学院上海光学精密机械研究所林楠团队宣布开发出固体激光器 LPP-EUV 光源，理论转换效率有望超越商用水平，为国产 EUV 提供另一条技术路径 。但这些都是理论研发成功，无法商用。
其次，关于DUV 光刻机技术，中科院宣布成功研制基于固态晶体的 193 纳米深紫外激光光源，避开传统氟化氩准分子激光技术专利壁垒，实现完全自主可控，为国产 ArF 光刻机奠定基础 。工信部目录已收录分辨率≤65nm 的氟化氩光刻机，标志着国产 DUV 装备进入推广应用阶段 。但依旧不是可商用产品。
另外，正在研发可商用产品的企业其实是新凯来公司，这是从华为分离出来的企业，据称，2025 年下半年，多家企业利用国产 EUV 光源建立试产线，5 纳米试片良率达到 60%，部分本土部件已在中芯国际小批量应用 。华为东莞工厂启动 LDP 技术样机压力测试，计划 2026 年实现量产 。
所以，大家等着吧，看能否如期迎来好消息。
（责任编辑：韩丽）
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