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ASML挑战摩尔定律极限， 已基本完成 1nm 光刻机设计！
说到光刻机，绝对是国产芯片之路的痛点，也是卡住芯片的关键。目前国产只能做到90nm光刻机，很多人疑惑，上海微电子不是突破了22nm？是的，但上海微电子完成的是22nm光刻机的研制工作，还没有量产，计划2021年交付首台国产22nm的光刻机。
最近，ASML传来的消息，再次警醒我们，不要太乐观，照目前进度来看，国产光刻机与ASML之间至少有几十年的差距。
IMEC和ASML一直强强联合，合作开发EUV光刻技术，不久前，IMEC公司首席执行官透露，通过与ASML公司合作，将下一代高分辨率EUV光刻技术——高NA EUV光刻技术商业化。还强调，将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。
国外很多半导体公司都声称摩尔定律已经走到了尽头，没成想ASML根本没放弃，按照透露的信息似乎进展还不小，国产光刻机之路任重而道远呀。
（责任编辑：杨丹丹）
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