运营商财经 康钊/文
近日，有消息称，目前已有两款国产光刻胶通过客户验证，光刻胶项目已经取得了一定的进展，这意味着国产光刻胶终于取得突破。但是，国产光刻机整体状况是什么呢？不容乐观。
光刻胶在芯片产业中非常重要，光刻机是一种化学液体，在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。中芯国际等芯片代工企业日常天天需要使用光刻胶。
目前市场上的光刻胶种类有g线、i线、KrF、ArF、EUV五种类型。其中g线、i线主要应用于250nm及以上的工艺，KrF应用于250nm-130nm工艺，ArF应用于130nm-14nm工艺，而EUV则应用于7nm以下工艺。
大家都知道，全球光刻机产业最牛的是荷兰ASML公司，那么，在光刻胶领域谁厉害呢？是日本企业。日美厂商占据了全球光刻胶市场绝大份额，特别是高端的EUV光刻胶，全球仅有日本厂商生产，而在g线/i线、KrF、ArF、EUV四个市场中，日本的市占率分别为61%、80%、93%、100%。JSR、富士化学、东京电子等等日企长期占据市场垄断地位。
中国在光刻机市场上居于什么地位呢？据悉，中国在光刻胶上高度依赖进口，目前在EUV光刻胶上的自给率为0，而在ArF上自给率约为1%。
而中国所需要的半导体光刻胶。进口比例高达九成，中国自己只能生产所需的光刻胶的10%，且大多数低端光刻胶。
很显然，这就是日本故意卡脖子。高端光刻胶保质期较短，且保存较为困难，芯片制造商通常不会大量购买，而是有需求时在购买。一旦日本企业限供光刻胶，中国芯片制造厂商难免陷入 " 无胶可用 " 的困境。
2019年7月1日，日本就曾宣布，限制对韩国出口3种半导体材料，即“氟聚酰亚胺”、“光刻胶”和“高纯度氟化氢”3种半导体材料。也就是说，光刻胶就曾作为日本打击韩国的“武器之一”，日本故意限制对韩国的光刻胶出口，一度让韩国半导体产业非常难受。
（责任编辑：韩丽）
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